基于CVD法的镀锇膜技术
我们使用自主开发的镀膜设备，利用等离子体CVD镀锇。（已在日本和美国获得专利）
我们对光阑实施镀锇膜。为防止静电，有时会使用铂等贵金属对电子显微镜的光阑进行镀膜，但本公司建议使用锇作为镀膜材料。
本公司的镀锇膜技术的特点
本公司对电子显微镜的光阑实施镀锇膜。
使用电子显微镜时，电子束可能会产生带电。如果光阑带电，电子束就无法正常聚焦，也就无法达到预期的空间分辨率。有效的预防对策是镀膜，镀锇膜就是方法之一。镀铂主要通过PVD法，而镀锇则通过CVD法。
利用等离子体CVD法形成的锇膜的厚度为10nm -20nm，包括微孔的内表面，都可以均匀地成膜。锇的熔点非常高（3045℃），具有很强的抗热损伤特性。锇膜的表面均匀且非常光滑，适合在真空环境中使用。
锇是铂族的一种稀有金属，呈蓝灰色。它的相对密度是所有元素中最高的，为22.57，熔点为3045℃，沸点超过5000℃。由于锇是六角密积结构，所以在常温常压下很稳定。
它的电导率为11.4，在稀有金属中比较好，莫氏硬度为8，是一种非常坚硬的金属。
锇膜的厚度
| 膜厚 | 10nm -20nm |